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匯眾達潔凈室裝修中溫濕度的控制HZD
詳細信息| 詢價留言加工定制:是 品牌:匯眾達 型號:HZD 殺有害菌率:99.99 % 除塵率:99.99 % 廢氣凈化率:99.99 % 凈化級別:百萬-十萬級 適用面積:20-2000 ㎡ 殺霉菌率:99.99 % 負離子濃度:1000 個/m3 適用面積:20-2000 ㎡ 殺霉菌率:99.99 %
潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定,但在滿足工藝要求的條件下,應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高,出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉,但作為總的原則看,由于加工精度*來越*精細,所以對溫度波動范圍的要求*來越*小。例如在大規(guī)模集成電路生產的光刻曝光工藝中,作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求*來越*小。直徑100 um的硅片,溫度上升1度,就引起了0.24um線性膨脹,所以*須有±0.1度的恒溫,同時要求濕度值一般較低,因為人出汗以后,對產品將有污染,特別是怕鈉的半導體車間,這種車間溫度不宜超過25度,濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時,冷卻水管壁上會結露,如果發(fā)生在精密裝置或電路中,就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外,濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以清除。相對濕度*高,粘附的越難去掉,但當相對濕度低于30%時,又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產*佳濕度范圍為35-45%。
潔凈室裝修中溫濕度的控制,匯眾達*業(yè)從事實驗室設計施工,實驗室裝修,實驗室設備,實驗室改建,實驗室翻新,實驗室隔斷等實驗室性凈化工程,10年凈化實驗室設計規(guī)格安裝經驗,集規(guī)劃設計裝修施工為一體,*業(yè)團隊,設備精良,技術*先。在實驗室整體規(guī)劃設計、施工建設及實驗室設備生產服務中不斷創(chuàng)新,滿足不同領域客戶需求。
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